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Eksma 保護銀反射鏡-2

簡要描述:Eksma 保護銀反射鏡-2
在整個可見光和近紅外光譜區(qū)域中,保護銀(Ag)鏡的反射率均高于鋁。我們保護銀鏡具有出色的耐用性。

  • 產(chǎn)品品牌:Eksma
  • 廠商性質(zhì):代理商
  • 更新時間:2021-03-23
  • 訪  問  量:856

詳細介紹

品牌Eksma價格區(qū)間面議
組件類別光學元件應用領(lǐng)域醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,電子,綜合

Eksma 保護銀反射鏡-2



保護銀鏡,對于400 nm-IR的平均反射率> 96%。在整個可見光和近紅外光譜區(qū)域中,這些反射鏡的反射率均高于鋁。

Eksma 保護銀反射鏡-2

產(chǎn)品介紹

ØLIDT-在800 nm,50 Hz,94 fsec脈沖下為0.25 J / cm2 *

ØLIDT-在1064 nm,50 Hz,11納秒脈沖下為1.8 J / cm2 *

Ø400 nm的平均反射率> 97%–紅外

Ø提供BK7,UVFS,Zerodur®基材

Ø提供圓形,方形,平面或球面鏡

ØOEM功能-請聯(lián)系以獲得*

Ø可應要求提供測試樣品

在整個可見光和近紅外光譜區(qū)域中,保護銀(Ag)鏡的反射率均高于鋁。我們保護銀鏡具有出色的耐用性。

*激光誘導損壞閾值結(jié)果是根據(jù)ISO 21254-2:1000對1測試程序測得的。

EKSMA OPTICS是激光,激光系統(tǒng)和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學,工業(yè),醫(yī)學,美學,軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用,激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體,光機械,帶驅(qū)動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應商,它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項業(yè)務,其基礎(chǔ)是在激光和光學領(lǐng)域的長期專業(yè)知識。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實驗室的高質(zhì)量測試和認證。 通過嚴格的檢查程序,質(zhì)量控制評估以及對新技術(shù)的承諾,我們不斷改進并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001:2015認證。 必維檢驗集團(Bureau Veritas)頒發(fā)的認證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設(shè)備和擴展制造能力。
公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割,研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設(shè)備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。EKSMA OPTICS是激光,激光系統(tǒng)和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學,工業(yè),醫(yī)學,美學,軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用,激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體,光機械,帶驅(qū)動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應商,它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項業(yè)務,其基礎(chǔ)是在激光和光學領(lǐng)域的長期專業(yè)知識。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實驗室的高質(zhì)量測試和認證。 通過嚴格的檢查程序,質(zhì)量控制評估以及對新技術(shù)的承諾,我們不斷改進并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001:2015認證。 必維檢驗集團(Bureau Veritas)頒發(fā)的認證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設(shè)備和擴展制造能力。
公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割,研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設(shè)備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

產(chǎn)品型號

保護銀平凹球面鏡

直徑:12.7 + 0.00 / -0.13mm邊緣厚度(ET):6.0±0.2mm

型號

材料

類型

尺寸

厚度

半徑

091-0125R-50

BK7

pl/cv

ø 12.7 mm

6 mm

-50 mm

091-0125R-75

BK7

pl/cv

ø 12.7 mm

6 mm

-75 mm

091-0125R-100

BK7

pl/cv

ø 12.7 mm

6 mm

-100 mm

091-0125R-150

BK7

pl/cv

ø 12.7 mm

6 mm

-150 mm

091-0125R-200

BK7

pl/cv

ø 12.7 mm

6 mm

-200 mm

091-0125R-250

BK7

pl/cv

ø 12.7 mm

6 mm

-250 mm

091-0125R-300

BK7

pl/cv

ø 12.7 mm

6 mm

-300 mm

091-0125R-400

BK7

pl/cv

ø 12.7 mm

6 mm

-400 mm

091-0125R-500

BK7

pl/cv

ø 12.7 mm

6 mm

-500 mm

091-0125R-1000

BK7

pl/cv

ø 12.7 mm

6 mm

-1000 mm

091-0125R-1500

BK7

pl/cv

ø 12.7 mm

6 mm

-1500 mm

091-0125R-2000

BK7

pl/cv

ø 12.7 mm

6 mm

-2000 mm

091-3125R-50

UVFS

pl/cv

ø 12.7 mm

6 mm

-50 mm

091-3125R-75

UVFS

pl/cv

ø 12.7 mm

6 mm

-75 mm

091-3125R-100

UVFS

pl/cv

ø 12.7 mm

6 mm

-100 mm

091-3125R-150

UVFS

pl/cv

ø 12.7 mm

6 mm

-150 mm

091-3125R-200

UVFS

pl/cv

ø 12.7 mm

6 mm

-200 mm

091-3125R-250

UVFS

pl/cv

ø 12.7 mm

6 mm

-250 mm

091-3125R-300

UVFS

pl/cv

ø 12.7 mm

6 mm

-300 mm

091-3125R-400

UVFS

pl/cv

ø 12.7 mm

6 mm

-400 mm

091-3125R-500

UVFS

pl/cv

ø 12.7 mm

6 mm

-500 mm

091-3125R-1000

UVFS

pl/cv

ø 12.7 mm

6 mm

-1000 mm

091-3125R-1500

UVFS

pl/cv

ø 12.7 mm

6 mm

-1500 mm

091-3125R-2000

UVFS

pl/cv

ø 12.7 mm

6 mm

-2000 mm

保護銀平凹球面鏡

直徑:50.8 + 0.00 / -0.13mm邊緣厚度(ET):10.0±0.2mm

型號

材料

類型

尺寸

厚度

半徑

095-0125R-100

BK7

pl/cv

ø 50.8 mm

10 mm

-100 mm

095-0125R-150

BK7

pl/cv

ø 50.8 mm

10 mm

-150 mm

095-0125R-200

BK7

pl/cv

ø 50.8 mm

10 mm

-200 mm

095-0125R-250

BK7

pl/cv

ø 50.8 mm

10 mm

-250 mm

095-0125R-300

BK7

pl/cv

ø 50.8 mm

10 mm

-300 mm

095-0125R-400

BK7

pl/cv

ø 50.8 mm

10 mm

-400 mm

095-0125R-500

BK7

pl/cv

ø 50.8 mm

10 mm

-500 mm

095-0125R-600

BK7

pl/cv

ø 50.8 mm

10 mm

-600 mm

095-0125R-800

BK7

pl/cv

ø 50.8 mm

10 mm

-800 mm

095-0125R-1000

BK7

pl/cv

ø 50.8 mm

10 mm

-1000 mm

095-0125R-1500

BK7

pl/cv

ø 50.8 mm

10 mm

-1500 mm

095-0125R-2000

BK7

pl/cv

ø 50.8 mm

10 mm

-2000 mm

095-0125R-2500

BK7

pl/cv

ø 50.8 mm

10 mm

-2500 mm

095-0125R-3000

BK7

pl/cv

ø 50.8 mm

10 mm

-3000 mm

095-0125R-4000

BK7

pl/cv

ø 50.8 mm

10 mm

-4000 mm

095-0125R-5000

BK7

pl/cv

ø 50.8 mm

10 mm

-5000 mm

095-0125R-6000

BK7

pl/cv

ø 50.8 mm

10 mm

-6000 mm

095-0125R-8000

BK7

pl/cv

ø 50.8 mm

10 mm

-8000 mm

095-0125R-10000

BK7

pl/cv

ø 50.8 mm

10 mm

-10000 mm

095-3125R-100

UVFS

pl/cv

ø 50.8 mm

10 mm

-100 mm

095-3125R-150

UVFS

pl/cv

ø 50.8 mm

10 mm

-150 mm

095-3125R-200

UVFS

pl/cv

ø 50.8 mm

10 mm

-200 mm

095-3125R-250

UVFS

pl/cv

ø 50.8 mm

10 mm

-250 mm

095-3125R-300

UVFS

pl/cv

ø 50.8 mm

10 mm

-300 mm

095-3125R-400

UVFS

pl/cv

ø 50.8 mm

10 mm

-400 mm

095-3125R-500

UVFS

pl/cv

ø 50.8 mm

10 mm

-500 mm

095-3125R-600

UVFS

pl/cv

ø 50.8 mm

10 mm

-600 mm

095-3125R-800

UVFS

pl/cv

ø 50.8 mm

10 mm

-800 mm

095-3125R-1000

UVFS

pl/cv

ø 50.8 mm

10 mm

-1000 mm

095-3125R-1500

UVFS

pl/cv

ø 50.8 mm

10 mm

-1500 mm

095-3125R-2000

UVFS

pl/cv

ø 50.8 mm

10 mm

-2000 mm

095-3125R-2500

UVFS

pl/cv

ø 50.8 mm

10 mm

-2500 mm

095-3125R-3000

UVFS

pl/cv

ø 50.8 mm

10 mm

-3000 mm

095-3125R-4000

UVFS

pl/cv

ø 50.8 mm

10 mm

-4000 mm

095-3125R-5000

UVFS

pl/cv

ø 50.8 mm

10 mm

-5000 mm

095-3125R-6000

UVFS

pl/cv

ø 50.8 mm

10 mm

-6000 mm

095-3125R-8000

UVFS

pl/cv

ø 50.8 mm

10 mm

-8000 mm

095-3125R-10000

UVFS

pl/cv

ø 50.8 mm

10 mm

-10000 mm

 

材料

BK7, UVFS

S1表面平整度*

λ/10@633 nm

S1表面質(zhì)量*

40-20表面光潔度 (MIL-PRF-13830B)

S2表面質(zhì)量

簡單拋光

通光孔徑

>90% of the diameter

直徑公差

0.00/-0.13 mm

厚度公差

±0.2 mm

激光誘導的損傷閾值@ 1064 nm

1.8 J/cm2
at 1064 nm, 50 Hz, 11 nsec pulses**

激光誘導的損傷閾值@ 800 nm

0.25 J/cm2
at 800 nm, 50 Hz, 94 fsec pulses**

S1 *球面鏡的表面是彎曲的

**激光誘導的損傷閾值結(jié)果是由LIDARIS根據(jù)ISO 21254-2:1000對1測試程序測量的。

 

EKSMA OPTICS是激光,激光系統(tǒng)和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學,工業(yè),醫(yī)學,美學,軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用,激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體,光機械,帶驅(qū)動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應商,它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項業(yè)務,其基礎(chǔ)是在激光和光學領(lǐng)域的長期專業(yè)知識。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實驗室的高質(zhì)量測試和認證。 通過嚴格的檢查程序,質(zhì)量控制評估以及對新技術(shù)的承諾,我們不斷改進并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001:2015認證。 必維檢驗集團(Bureau Veritas)頒發(fā)的認證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設(shè)備和擴展制造能力。
公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割,研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設(shè)備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。EKSMA OPTICS是激光,激光系統(tǒng)和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學,工業(yè),醫(yī)學,美學,軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用,激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體,光機械,帶驅(qū)動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應商,它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項業(yè)務,其基礎(chǔ)是在激光和光學領(lǐng)域的長期專業(yè)知識。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實驗室的高質(zhì)量測試和認證。 通過嚴格的檢查程序,質(zhì)量控制評估以及對新技術(shù)的承諾,我們不斷改進并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001:2015認證。 必維檢驗集團(Bureau Veritas)頒發(fā)的認證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設(shè)備和擴展制造能力。
公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割,研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設(shè)備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

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